Холодное формование плитки

Холодное формование плиткиФомование штучных изделий методом холодного отверждения осуществляется в необогреваемых формах при температуре помещения.

Основные проблемы с формованием возникают также в холодное время года: снижается температура в рабочем помещении, клей и резиновая крошка также имеют низкое температуры, что приводит к затягиванию времени отверждения клея (до 2 суток), что приводит к снижению производительности производства и появлению брака.

СЛЕДУЮЩИЕ ДЕЙСТВИЯ ПОМОГУТ НОРМАЛИЗОВАТЬ ПОЛОЖЕНИЕ:

  1. Увеличение температуры производственного помещения – что приведет к повышению температуры клея и крошки, увеличению скорости отверждения клея.

Многие потребители считают, что одинаковая температура в помещении зимой и летом гарантирует одинаковую скорость отверждения клея, но при этом не учитывают, что при установке обогревательных элементов влажность в помещении падает, что снижает скорость отверждения клея.

Для минимизирования этого фактора рекомендуем рядом с обогревателем поставить емкость с водой (открытую).

  1. Разогрев клея как описывалось выше;
  2. Добавление при замешивании резиновой крошки со связующим воды (вода добавляется не в клей, а при замешивании, непосредственно в резиновую крошку!). Количество воды составляет примерно 1-3% от массы клея (до 5%).

При слишком большом количестве добавленной в крошку воды — может произойти вспучивание изделия (так как на поверхности образуется отвержденная пленка, а под ней скапливается углекислый газ от отверждения клея в толще изделия), вспенивание клея на поверхности, может повышаться жесткость изделия, а также значительно снизится рабочее время клея – рабочие могут не успеть растащить смесь резиновой крошки со связующим до начала отверждения клея.

  1. Добавка системы катализаторов отверждения AveniR®

AveniR® CAT – это внешняя система катализаторов, разработанная под рецептуры связующих AveniR®, которая применяется с целью дать клиенту возможность регулирования времени полимеризации конечного продукта.

Добавить комментарий

Ваш e-mail не будет опубликован. Обязательные поля помечены *

Навигация по записям